Los sistemas de procesamiento de plasma por lotes ofrecen opciones de cámaras de vacío pequeñas, medianas y grandes, lo que proporciona correlación de procesos, continuidad del controlador y procesamiento de plasma de gas al vacío confiable y repetible.
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Los sistemas de tratamiento con plasma de la serie AP son adecuados para una amplia gama de aplicaciones, incluida la limpieza con plasma, la activación de superficies y la mejora de la adhesión. Estos sistemas sirven a sectores como la fabricación de semiconductores, el embalaje y montaje de microelectrónica y la producción de equipos médicos y de ciencias biológicas. La serie AP comprende cuatro sistemas de procesamiento de plasma por lotes, que ofrecen opciones de cámaras de vacío pequeñas, medianas y grandes para satisfacer las necesidades de los clientes, desde entornos de investigación y desarrollo hasta diversos niveles de producción.
Características y beneficios de los sistemas de tratamiento con plasma
● El controlador PLC con interfaz de pantalla táctil proporciona una visualización gráfica intuitiva y monitoreo del proceso en tiempo real.
● El diseño de estante flexible permite el procesamiento de varios soportes de piezas en modo de plasma directo o descendente.
● El generador de RF de 13,56 MHz con adaptación automática de impedancia garantiza una reproducibilidad del proceso inigualable
● El sistema de control de software propietario genera datos de proceso y producción para el control estadístico de procesos (SPC)
● Operación por lotes; cada unidad es totalmente independiente y requiere un espacio mínimo
● La bomba, la cámara, la electrónica de control y el generador de RF de 13,56 MHz están alojados en un solo gabinete.
Modelos y configuraciones de sistemas de tratamiento de plasma
Sistemas de tratamiento con plasma de mesa AP-600 y AP-300:Los sistemas de tratamiento por plasma AP-300 y AP-600 son unidades de mesa totalmente autónomas y requieren un espacio mínimo en la mesa de trabajo. El chasis del sistema alberga la cámara de plasma, la electrónica de control, un generador de RF de 13,56 MHz y una red de adaptación automática de la cámara (sólo la bomba de vacío está ubicada en el exterior). El acceso de mantenimiento se proporciona a través de puertas entrelazadas o paneles extraíbles. La cámara de plasma admite hasta siete estantes extraíbles y ajustables, eléctricos o conectados a tierra, para acomodar diversas piezas, conjuntos y transportadores, incluidos cargadores, bandejas y botes de oblea. El sistema de procesamiento de plasma al vacío admite una amplia gama de gases de proceso, incluidos argón, oxígeno, hidrógeno, helio y gases fluorados. Ambos modelos vienen de serie con dos (2) controladores de flujo másico para un control óptimo del gas, con dos (2) unidades adicionales disponibles como opciones (hasta cuatro en total). Las convenientes conexiones de servicios públicos facilitan la calibración periódica requerida durante los procesos de validación.
Sistema de procesamiento de plasma AP-1000:La plataforma AP-1000 permite un acceso frontal completo, lo que facilita la operación y el mantenimiento de todos los componentes internos. La bomba está montada sobre ruedas para facilitar su extracción. La cámara de plasma está construida con acero inoxidable de calibre 11 con accesorios de aluminio, lo que garantiza una durabilidad excepcional. La cámara cuenta con múltiples estantes extraíbles y ajustables para acomodar una variedad de portapiezas, incluidos cargadores, bandejas, obleas y botes de obleas. Equipado con estantes HTP (alto rendimiento) opcionales, el sistema de procesamiento de plasma AP-1000 combina la confiabilidad y la calidad del proceso de la plataforma AP-1000 con las ventajas comprobadas del diseño de estante exclusivo de Nordson MARCH. El AP-1000 HTP optimiza el uso de iones reactivos dentro del plasma de RF, mejorando la uniformidad del procesamiento y reduciendo los tiempos de ciclo. El sistema AP-1000 HTP admite una variedad de gases de proceso, como argón, hidrógeno y helio. Viene de serie con cuatro controladores de flujo másico de gas para garantizar un control óptimo del gas. Los cargadores ranurados están colocados verticalmente dentro de la recámara.
Además, los cargadores ranurados se pueden colocar verticalmente dentro de la recámara. Normalmente, cada cargador contiene al menos 20 marcos de plomo. La cámara de plasma AP-1000 puede acomodar hasta 12 cargadores, dependiendo del tamaño del cargador.
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